三氟化氮（NF3），在微電子工業(yè)中是一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，隨著納米技術(shù)和電子工業(yè)的飛速發(fā)展，其需求量也在日益增加。高純?nèi)∟F3）屬于電子特氣，毒性較強，人體直接接觸會有很大的危險，這時，便需要電子特氣柜這樣的特種氣體設(shè)備來保證氣體的純度和使用安全。

什么是三氟化氮？

三氟化氮（nitrogen trifluoride）化學式NF?，在常溫下是一種無色、無臭、性質(zhì)穩(wěn)定的氣體，是一種強氧化劑。NF3是低毒性物質(zhì)，但是它能強烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道粘膜，腐蝕組織，研究表明：大鼠吸入1000ppm·l小時未見死亡，但出現(xiàn)高鐵血紅蛋白血癥，當吸入10000ppm·l小時有死亡，在2500ppm時吸毒后4小時死亡。要知道在微電子行業(yè)刻蝕工藝中，所使用的NF3是儲存在氣體鋼瓶中的高純度壓縮氣體。

三氟化氮的應(yīng)用領(lǐng)域：

高純?nèi)∟F3）具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時是非常良好的清洗劑。三氟化氮主要用于化學氣相淀積（CVD）裝置的清洗，同時在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運用。

三氟化氮可以單獨或與其它氣體組合，用作等離子體工藝的蝕刻氣體，例如，NF3、NF3/Ar、NF3/He用于硅化合物MoSi2的蝕刻；NF3/CCl4、NF3/HCl既用于MoSi2的蝕刻，也用于NbSi2的蝕刻。

電子特氣柜的功能作用：

電子特氣柜是專為易燃易爆、毒性、腐蝕性等危險性氣體供應(yīng)而設(shè)計的特種氣體系統(tǒng)設(shè)備，按類別可分為全自動、半自動和手動操作，有包括自動吹掃、自動切換以及緊急情況下的自動安全切斷（當設(shè)定報警信號被觸發(fā)時）等基本功能。

其中全自動電子特氣柜采用PLC為控制主體，以觸摸屏進行系統(tǒng)顯示和設(shè)定，配合合理設(shè)計布局的高純閥件及氣體監(jiān)測泄漏報警系統(tǒng)等，可保持氣體的安全穩(wěn)定及高純度，保證實驗或生產(chǎn)正常進行。

綜上，三氟化氮（NF3）是微電子行業(yè)中一種優(yōu)良的等離子刻蝕氣體，是一種對人體有很大危險性的電子特氣，電子特氣柜的作用是可以保證三氟化氮（NF3）氣體的運輸安全、使用安全、氣體的純度和提供連續(xù)穩(wěn)定的氣體壓力。感謝您的閱讀！